名稱 : 聚合物粉末與載體氣體之分離方法
公告/公開日 : 19900111
發明人名 : 中島明彥;伊東包夫;淺沼正;船越良幸
代理人 : 賴經臣
摘要 : 聚合物粉末自載體分離是藉，在旋風分離器中從載體氣體分離聚合物粉末，使如此分離的聚合物粉末藉由旋風分離器之底部引入漏斗，藉旋轉加料器而將聚合物從漏斗放出，並按漏斗中之粉末高弁淶控制旋轉加料器之轉速，按旋轉加料器的轉速控制通入旋風分離器和漏斗之間的聚合物粉末導管的沖洗氣流量以防止發生堵塞，並按旋轉加料器之轉速變化控制通至旋轉加料器之近上方處的沖洗氣流量。因此，旋風分離器和漏斗之間的導管和旋轉加料器上面區域之堵塞可被防止，而漏斗中之粉末頂部高度可被保持於一定的預定恆常高度。附註：本案已向日本國申請專利，申請日期：1985年;11月28日，案號：266250號。
公告/公開日 : 19900111
發明人名 : 中島明彥;伊東包夫;淺沼正;船越良幸
代理人 : 賴經臣
摘要 : 聚合物粉末自載體分離是藉，在旋風分離器中從載體氣體分離聚合物粉末，使如此分離的聚合物粉末藉由旋風分離器之底部引入漏斗，藉旋轉加料器而將聚合物從漏斗放出，並按漏斗中之粉末高弁淶控制旋轉加料器之轉速，按旋轉加料器的轉速控制通入旋風分離器和漏斗之間的聚合物粉末導管的沖洗氣流量以防止發生堵塞，並按旋轉加料器之轉速變化控制通至旋轉加料器之近上方處的沖洗氣流量。因此，旋風分離器和漏斗之間的導管和旋轉加料器上面區域之堵塞可被防止，而漏斗中之粉末頂部高度可被保持於一定的預定恆常高度。附註：本案已向日本國申請專利，申請日期：1985年;11月28日，案號：266250號。
名稱 : 氣體分離膜之反應性後處理方法
公告/公開日 : 19900111
發明人名 : 理查.艾倫.海斯;菲立浦.馬諾;歐肯.麥克斯.艾魁那
代理人 : 林敏生
摘要 : 本發明係揭示將聚合物質施於氣體分離膜上以改善該膜對至少一對氣體的滲透選擇性（permselectivity）。
公告/公開日 : 19900111
發明人名 : 理查.艾倫.海斯;菲立浦.馬諾;歐肯.麥克斯.艾魁那
代理人 : 林敏生
摘要 : 本發明係揭示將聚合物質施於氣體分離膜上以改善該膜對至少一對氣體的滲透選擇性（permselectivity）。
名稱 : 製備駐極電介體濾器之方法
公告/公開日 : 19900111
發明人名 : 水戶正之;松浦智;品川好雄
代理人 : 林敏生
摘要 : 本文所提供者乃用來製備一駐極體濾器之方法，包含饋入由合成纖維電子充電幅條組成之一非纖品經過壓紋滾輪及平坦滾輪配合液壓下之鉗夾，並在該合成纖維軟化之溫度之下，藉此使該非織品表面承受部份之熔合密接及整合。
公告/公開日 : 19900111
發明人名 : 水戶正之;松浦智;品川好雄
代理人 : 林敏生
摘要 : 本文所提供者乃用來製備一駐極體濾器之方法，包含饋入由合成纖維電子充電幅條組成之一非纖品經過壓紋滾輪及平坦滾輪配合液壓下之鉗夾，並在該合成纖維軟化之溫度之下，藉此使該非織品表面承受部份之熔合密接及整合。
名稱 : 含有矽鈦及鎵的氧化物之合成晶體多孔物質
公告/公開日 : 19900111
發明人名 : 吉斯皮貝路西;安吉拉卡拉帝;安東尼奧艾斯波西多;馬利奧加布里勒克勒里西
代理人 : 鄭自添
摘要 : 合成多孔晶體物質及其製法。;本物質具有沸石之性質，含有矽、鈦及鎵，其燃燒過之無水狀態之實驗室為;pHGaO2．qTiO2．SiO2式中ｐ大於０，小於或等於0.050；ｑ大於０，小於或等於0.025；HGaO2中之H+可至少部分或全部被陽離子取代。;本物質可做為分子篩，離子交換劑及各種反應之觸媒。;1986年10月22日在義大利申請專利第22070A/86號
公告/公開日 : 19900111
發明人名 : 吉斯皮貝路西;安吉拉卡拉帝;安東尼奧艾斯波西多;馬利奧加布里勒克勒里西
代理人 : 鄭自添
摘要 : 合成多孔晶體物質及其製法。;本物質具有沸石之性質，含有矽、鈦及鎵，其燃燒過之無水狀態之實驗室為;pHGaO2．qTiO2．SiO2式中ｐ大於０，小於或等於0.050；ｑ大於０，小於或等於0.025；HGaO2中之H+可至少部分或全部被陽離子取代。;本物質可做為分子篩，離子交換劑及各種反應之觸媒。;1986年10月22日在義大利申請專利第22070A/86號
名稱 : 電解光製系統
公告/公開日 : 19900111
發明人名 : 杉山治樹;岩崎康宏;桑原陽平;淺岡輝雄;森谷政好
代理人 : 何金塗
摘要 : 一種電解光製系統，一電極定位於電解槽內，並以預設間隙與工件表面互相離開。將脈衝間歇加在電極上。從電解槽排出含有殘渣物之電解液。以過濾裝置清理所排出之電解液，以產生清淨電解液。將此清淨電解液供給至電解槽以便進行下次加工。;1986年10月30日在日本申請專利第61-257071號;1987年2月9日在日本申請專利第62-027616號;1987年4月23日在日本申請專利第62-100291號
公告/公開日 : 19900111
發明人名 : 杉山治樹;岩崎康宏;桑原陽平;淺岡輝雄;森谷政好
代理人 : 何金塗
摘要 : 一種電解光製系統，一電極定位於電解槽內，並以預設間隙與工件表面互相離開。將脈衝間歇加在電極上。從電解槽排出含有殘渣物之電解液。以過濾裝置清理所排出之電解液，以產生清淨電解液。將此清淨電解液供給至電解槽以便進行下次加工。;1986年10月30日在日本申請專利第61-257071號;1987年2月9日在日本申請專利第62-027616號;1987年4月23日在日本申請專利第62-100291號